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光掩膜版(铬版)
光掩膜是刻有微电路的高精度版,由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成,蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。这种制版方式在掩膜行业称为光透。
光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成电路)芯片,还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片,光刻通过光掩膜在芯片上显影亚搏体育手机版-亚搏体育手机版下载-亚搏体育手机版官方下载。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影,这种方法就是熟称的曝光,这个时候的掩膜也可称为光罩。
在平整的玻璃板上镀上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属PVD沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。
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